01.11.2023

На сегодняшний день такую литографию выпускают только две компании в мире — голландская ASML и японская Nikon

Производство российского литографа для топологии 350 нм начнется в 2024 году. Оборудование для выпуска чипов с топологией 130 нм — в 2026 году, пишут РИА «Новости» со ссылкой на заявление замглавы Минпромторга Василия Шпака.

Такую литографию на сегодняшний день выпускают только две компании в мире — голландская ASML и японская Nikon, сказал в интервью агентству Шпак: «Больше никто в мире не может этого делать. Мы сейчас встали на этот путь, причем не одни, а вместе с белорусами».

Чипы с топологией 350-65 нм используются в микроконтроллерах, силовой электронике, телекоммуникационных схемах, автомобильной электронике и др. Это примерно 60% рынка, отметил замминистра. Технология по мнению экспертов очень востребована в мире и будет еще востребована долгое время, минимум 10 лет.

Кроме производства литографов с 2024 года планируется начать создание полигонов для тестирования оборудования микроэлектроники. Будут использованы уже существующие площади там же, где расположены производственные предприятия. Это Москва, Зеленоград, Санкт-Петербург и Новосибирск.

Подписывайтесь на наши новости в Telegram: https://t.me/idexpert

Читайте нас на VK: https://vk.com/idexpert_ru

Источник:  РИА Новости


Рейтинг статьи