|
|
Поиск
| ||
|
| ||
Статьи и обзоры |
 Российские предприятия микроэлектроники до 2032 года получат до 122 единиц отечественного оборудования
04.07.2025
В их числе установки для переноса изображения на пластину на уровне топологии, установка контроля топологического рисунка фотошаблонов, кластер плазмо-химического травления, установка для выращивания кристаллов Ge и др. Как выяснил CNews, к 2030-2032 гг. на отечественные радиоэлектронные предприятия будут внедрены 122 российских установки для производства микросхем. Об этом сообщил представитель Минпромторга на конференции «Электронное машиностроение — 2025».Уже три опытно-конструкторские работы (ОКР) для производства оборудования завершены. Среди них ОКР «Прогресс ППИ»: установка проекционного переноса изображения на пластину на уровне топологии до 350 нм (работа велась «ЗНТЦ» в 2021-2024 гг.), установка контроля топологического рисунка фотошаблонов или ОКР «Прогресс КТФ». Девять установок будут закончены в 2025 г. К ним относятся установка молекулярно-лучевой эпитаксии (АО «НТО»), оборудование автоматизированного прогона и тренировки СВЧ приборов (РТУ МИРЭА), кластер плазмо-химического травления (АО «НИИМЭ»), установка для выращивания кристаллов Ge и др. К 2030 г. планируется провести 110 конструкторских работ для создание установок, необходимых для производства микроэлектроники. Это следует из программы развития электронного машиностроения. Подробнее >>> Подписывайтесь на наши новости в Telegram: https://t.me/idexpert Читайте нас на VK: https://vk.com/idexpert_ru Источник: CNews Рейтинг статьи 
Оставить комментарий
Материалы по теме:
Статьи и обзоры
Новости рынка и технологий
Продукты автоматической идентификации
Все продукты >>> |
Проекты и решенияСобытияОпросКомментарии |
| © 2009, ID-EXPERT Cообщество профессионалов в области ID Является средством массовой информации (18+) | Политика конфиденциальности Разработка сайта "ИИ-студия АПЕТ" |
||||||||||
