25.09.2025

Договор, подписанный генеральным директором АО «ЗНТЦ» Анатолием Ковалевым и генеральным директором АО «Отраслевые решения» Дмитрием Ершом, включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования

23 сентября на площадке российского форума «Микроэлектроника 2025» подписан договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования c разрешением 350 нм (фотолитографа) между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и Отраслевыми решениями (входят в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT, резиденты ОЭЗ «Технополис Москва»), в развитие подписанного годом ранее соглашения ЗНТЦ и Микрона (входит в Группу компаний «Элемент», MOEX:ELMT), резидента ОЭЗ «Технополис Москва».

Фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Договор, подписанный генеральным директором АО «ЗНТЦ» Анатолием Ковалевым и генеральным директором АО «Отраслевые решения» Дмитрием Ершом, включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.

«В ходе проекта мы совместно с ЗНТЦ работали над технологией переноса изображения под задачи Элемента и Микрона. Подтверждено соответствие всем параметрам, заявленным в техзадании на ОКР», - сообщила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон», председатель совета директоров АО «Отраслевые решения».
«Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее параметры подтверждены на производственной площадке, осуществляется переход к серийному производству. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьезный задел, который позволяет нам перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм», - сказал Анатолий Ковалев, генеральный директор АО «ЗНТЦ».

«Перед нами стоит задача запустить производство электронной компонентной базы мирового класса. Литограф ЗНТЦ предназначен для топологических норм до 350 нм, которые используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах», - отметил Дмитрий Ерш, генеральный директор АО «Отраслевые решения».

Установка совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм создана в рамках реализации одного из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350-130 нм для обеспечения технологической независимости и предназначена для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Разработана и произведена в партнёрстве с белорусским ОАО «Планар». Основные характеристики фотолитографа представлены на сайте ЗНТЦ.

Соглашение о сотрудничестве в освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования для решения задач импортозамещения было подписано между ЗНТЦ и Микроном 24 сентября 2024 года.

Развитие современной отрасли электронного машиностроения — важный фактор обеспечения технологического суверенитета электронной промышленности. Микрон – ведущая производственная площадка в отрасли, открыта для сотрудничества со всеми, кто заинтересован в развитии отечественной компонентной базы, локализации продукции, импортозамещении материалов и развитии русской инженерной школы, технологической базы и производства.
Форум «Микроэлектроника 2025» проходит 21-27 сентября на площадке Научно-технологического Университета «Сириус» (Федеральная территория «Сириус», Олимпийская деревня) при поддержке Министерства промышленности и торговли Российской Федерации, Министерства науки и высшего образования Российской Федерации и Группы компаний «Элемент». Продукция Микрона представлена на объединенном стенде ГК «Элемент» (№129).

Подписывайтесь на наши новости в Telegram: https://t.me/idexpert 

Читайте нас на VK: https://vk.com/idexpert_ru


Источник:  Пресс-служба ГК "Микрон"


Рейтинг статьи